半導(dǎo)體薄膜沉積PVD設(shè)備是決定關(guān)鍵制程的設(shè)備，磁性組件是其中的關(guān)鍵零部件。該工藝?yán)脼R射源在工藝腔室內(nèi)形成交互的電磁場(chǎng)，延長(zhǎng)電子的運(yùn)動(dòng)路徑進(jìn)而提高等離子的濃度，最終實(shí)現(xiàn)沉積效果的提升。磁場(chǎng)的形態(tài)是PVD工藝的關(guān)鍵，直接影響到金屬薄膜沉積的速率與效果，以及靶材的利用率。

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我們深入掌握此類半導(dǎo)體精密磁組件的特殊要求，產(chǎn)品已批量穩(wěn)定交付，可實(shí)現(xiàn)對(duì)國(guó)外同類型產(chǎn)品的替代，并可從咨詢?cè)O(shè)計(jì)、快速供樣到批量生產(chǎn)，提供全流程定制化服務(wù)。