高性能芯片制程中的極紫外光刻雙工件臺,是先進集成電路裝備中的重要核心設(shè)備,其加工精度決定了芯片的集成度與性能。超精密二維大行程平面定位磁浮平臺,作為該設(shè)備系統(tǒng)中最重要的部件,是功能與精度實現(xiàn)的基礎(chǔ)。
這種尖端應(yīng)用對大規(guī)格磁鋼的超高尺寸精度、高磁性能、耐蝕鍍層、零缺陷外觀等各方面,提出了超越傳統(tǒng)工藝水準(zhǔn)的嚴(yán)苛要求,使磁鋼的精密加工、制造與檢驗成為極具挑戰(zhàn)性的任務(wù)。
我們深入掌握此類半導(dǎo)體精密磁鋼的特殊要求,已實現(xiàn)批量穩(wěn)定交付,并可從咨詢設(shè)計、快速供樣到批量生產(chǎn),提供全流程定制化服務(wù)。
? 高精度外形加工 ??尺寸公差0.03-0.04mm ??形位公差0.02-0.04mm ??高精度三坐標(biāo)測量機全檢
? 高性能燒結(jié)釹鐵硼 ??磁通偏差<1% ??高精度磁通計全檢
? Everlube鋁基涂層 ??溶劑測試 ??百格測試
? 零缺陷(無缺角、崩邊、毛刺、裂紋、劃痕、凹坑缺陷) ??外觀全檢